高真空磁控溅射系统两台

Ø   本底真空3*10-5Pa
Ø   可用于“磁性与非磁性”金属、合金、各种简单氧化物及其它非金属组成的纳米多层膜和异质结构的制备
Ø   在同一多层结构中最多可包含8种完全不同材料原位生长


高真空退火炉

可进行真空度10-5Pa级的退火,温度可达600℃,可选择在约1.2 T任意角度磁场下的退火


振动样品磁强计

Ø   美国 ADE 技术有限公司引进 Model 4 HF - VSM 振动样品磁强计
Ø   磁场: 2.1 Tesla,磁场分辨率0.01 Oe;高低温工作区间: 100-1000 K 和高灵敏度 2 x 10-6 emu
Ø   可用于纳米磁性薄膜的 M(T, H) 曲线等磁性测量工作


自制磁电阻-热效应测量装置

Ø   利用四探针法可测量薄膜在外磁场下的磁电阻、反常霍尔效应
Ø   搭配自制装置可测量自旋塞贝克效应
Ø   磁场范围±500 Oe(Helmholtz coils);±1.2 T(电磁铁)


透射电镜(TEM)样品制备设备

可以实现薄膜样品面内、截面以及其他块体材料的透射电镜样品的精准制备,离子枪束能量:0.1keV至8keV可调,液氮冷台保护


特制高分辨洛伦兹透射电镜JEOL LM-2100F

(SKLM公共资产,由本组张颖副研究员负责运行)

Ø   特别设计的物镜可使样品处磁场低于10 Oe
Ø   面内±600 Oe磁场范围内磁结构的原位观察
Ø   室温至100K原位磁结构和显微结构变化
Ø   电场或电流下磁结构和显微结构的原位观察