M02 组工作环境及实验条件:

1) 一个 100 m^2 超净实验室。

2) 8 个实验室总面积约为 300 m^2 。

3) 7 个职员及学生的办公室总面积约为 160 m^2 。

4) 一台从日本真空引进的 MPS-4000-HC7 型 TMR R&D 超高真空、低溅射速率、多功能磁控溅射仪。这台大型设备可用于 AMR、BMR、GMR 和 TMR 纳米磁性多层膜的研究工作。

5)一台从美国Kurt J.Lesker公司引进的CMS 型磁控溅射仪。该设备本底真空度能达到 1X10^-7Torr,能控制样品温度从室温到800摄氏度,共有2个直流靶和2个射频靶,可用于磁性及非磁性金属,也可用于半金属、半导体、陶瓷等各种材料多层膜的制备和研究。

6) 一台从美国 ADE 技术有限公司引进的 Model 4 HF - VSM 振动样品磁强计。该设备具有高磁场: 2.1 Tesla 高达0.01 Oe磁场分辨率: 高低温工作区间: 100-1000 K 和高灵敏度 2 x 10^-6 emu 。可用于纳米磁性薄膜的 M(T, H) 曲线等磁性测量工作。

组内其它设备参见下列图片。

(1) TMR R&D Sputtering System by ULVAC (made in Japan)

(2) Magnetron Sputtering System for fabricating half-metal oxides (made in USA)

(3) Magnetron Sputtering System for fabricating GMR multilayers (made in China)

(4) Ion Beam Etching System (made in China)

(5) Model 4 HF VSM (made in USA)

(6) AFM/MFM D3000 (made in USA)